Accès à distance ? S'identifier sur le proxy UCLouvain
Effect of deposition parameters on the stress gradient of CVD and PECVD poly-SiGe for MEMS applications
Primary tabs
| Document type | Communication à un colloque (Conference Paper) – Présentation orale avec comité de sélection |
|---|---|
| Publication date | 2004 |
| Language | Anglais |
| Conference | "the SPIE Conference on Micromachining and Microfabrication Process Technology", San Francisco - CA (2004) |
| Peer reviewed | yes |
| Host document | "Proceedings"- p. 8-18 |
| Affiliation | UCL - FSA/MAPR - Département des sciences des matériaux et des procédés |
| Links |
| Bibliographic reference | Van der Donck, T. ; Proost, Joris ; Baert, K. ; Van Hoof, C. ; Witvrouw, A.. Effect of deposition parameters on the stress gradient of CVD and PECVD poly-SiGe for MEMS applications.the SPIE Conference on Micromachining and Microfabrication Process Technology (San Francisco - CA, 2004). In: Proceedings, 2004, p. 8-18 |
|---|---|
| Permanent URL | http://hdl.handle.net/2078.1/70942 |