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Stabilization of porous silicon in aqueous buffer using atomic layer deposited hafnium oxide

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Bibliographic reference Rasson, Jonathan ; Francis, Laurent. Stabilization of porous silicon in aqueous buffer using atomic layer deposited hafnium oxide.4ièmes journées SemiConducteurs et Oxyde Poreux (Lille, du 22/06/2017 au 23/06/2017).
Permanent URL http://hdl.handle.net/2078.1/186307